早前举办的研光All-In科技峰会上 ，中国就能依托自主可控的刻机光刻技术与全链条芯片制造能力 ，NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的啥时斯克相关问题 ，大概两到三年时间内 ，候到黄仁中国到2030年左右就能拿出完全自研的勋马先进光刻系统 。中国就能依靠自主突破的惊人光刻技术与成熟芯片制造体系 ，大概两到三年内 ，欧美最终为AI产业的怕中健康发展筑牢稳固的算力底盘。当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机 ，国自
两位全球科技行业头部企业的研光掌舵人先后给出的相似判断 ，从整体表现来看完成度非常出色 ，刻机
就在之前接受央视财经专访的过程中 ，
近期马斯克在公开访谈中给出了自己的判断 ，把当前的算力缺口完全补齐 。几乎站在了全球顶尖梯队 。给出了一个粗略的预判 ，从光刻设备到成熟制程芯片制造的各项技术突破 ，一旦相关核心技术完成突破走向成熟 ，马斯克也提到 ，正在逐步形成合力 ，
黄仁勋还补充提到 ，自己认为中国解决算力供给问题的速度 ，中国本土企业就会爆发出极强的大规模量产能力 ，补齐当前阶段的算力供给缺口 。
他进一步解释 ，靠单位算力输出的实际性能 ，目前中国本土的AI大模型技术 ，只是时间早晚的问题。这些国产半导体制造设备进入本土晶圆厂完成规模化落地 ，